G—M制冷机辐射屏温度随动控制

来源 :低温与超导 | 被引量 : 0次 | 上传用户:libraspace
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
该文提出低温与超导系统温度控制新方法-基于泛逻辑代数的温度随动控制。这是一种以低温实验为基础,依据概念和专家知识的泛逻辑控制,控制特性用一组泛逻辑代数方程描述,从而可以有效解决G—M制冷机辐射屏温度的随动控制问题。该系统可应用于低温界面热阻实验和超导材料热物性测试等。温度随动控温范围为40K—150K,精度优于3K,这对低温与超导技术等有重要意义。
其他文献