【摘 要】
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通过双槽电化学腐蚀法制备大面积（12mm×58mm）均匀的多孔硅片,以小鼠免疫球蛋白G（IgG）与兔抗小鼠IgG抗体的相互作用为模型,证明其表面修饰环氧基团后能作为一种基底材料用于
【机 构】
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长春理工大学化学与环境工程学院,中国科学院长春应用化学研究所电分析化学国家重点实验室长春130022,长春理工大学生命科学技术学院,中国科学院长春应用化学研究所电分析化学国家重点实验室长春130022
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通过双槽电化学腐蚀法制备大面积（12mm×58mm）均匀的多孔硅片,以小鼠免疫球蛋白G（IgG）与兔抗小鼠IgG抗体的相互作用为模型,证明其表面修饰环氧基团后能作为一种基底材料用于蛋白质微阵列芯片的构建.结果表明,兔抗小鼠IgG抗体检测的灵敏度与多孔硅基底制备时所采用的腐蚀电流密度、腐蚀时间、氢氟酸浓度有关.当电流密度为500 mA/cm2,腐蚀时间为450 s,HF浓度为25％时,IgG在多孔硅基底上的固定量最大,IgG芯片对兔抗小鼠IgG抗体的检出限为10μg/L,检测线性范围为0.32～1
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