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用等离子体化学气相淀积系统制备了一种新颖的SiCOF／a-C：F双层低介电常数介质薄膜，并用红外光谱表征了该薄膜的化学结构．通过测量介质的折射率发现该薄膜长时间暴露在空气中，其光频介电常数几乎不变．然而，随退火温度的增加，其光频介电常数则会减小．基于实验结果讨论了几种可能的机理．二次离子质谱分析表明在Al／a—C：F／Si结构中F和C很容易扩散到Al中，但在AI／SiCOF／a-C：F／Si结构中，则没有发现C的扩散，说明SiCOF充当了C扩散的阻挡层．分析还发现在SiCOF和a-C：F之间没有明显的界面