中频反应磁控溅射制备氧化铝薄膜的工艺探索

来源 :漳州师范学院学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:sprinia
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采用中频反应磁控溅射工艺进行氧化铝薄膜的沉积实验,研究了反应气体(O2)含量和溅射功率与薄膜沉积速率的关系,并探讨了氧化铝薄膜制备过程中存在的“迟滞回线”问题.
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