聚二甲基硅氧烷-玻璃微流控芯片制作及高压非接触式电导检测系统的研制

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报道了基于边缘加固的PDMS-玻璃芯片制作新方法.在给定条件下,测得芯片的剪切强度为20.4 N/cm^2,电渗流为2.9×10^-4 cm^2/Vs(RSD 5.6%,n=5),方向指向阴极.研制了一套新型高压非接触式电导(HV-CCD)检测系统,详尽地介绍了检测器的接口和信号屏蔽技术.在优化条件下, 30 s内实现了对K^+、 Na^+、 Li^+的分离检测,检出限(3×S/N)分别为2.0 μmol/L、3 .0 μmol/L、5 .0 μmol/L.
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