铝基离子镀氮化物膜的研究

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探讨了在铝及铝合金基体上离子镀TiN薄膜的可行性,研究了各工艺因素和掺入微量Cr、Fe对TiN膜质量及性能的影响,同时还研究了铝基离子镀TiN薄膜的最佳工艺条件。结果表明,在铝合金基体上离子镀TiN薄膜是可行的。 The feasibility of ion-plating TiN film on aluminum and aluminum alloy substrates was discussed. The effects of various process factors and micro-amounts of Cr and Fe on the quality and properties of TiN films were studied. The effects of TiN films on aluminum- Good process conditions. The results show that it is feasible to deposit TiN film on the aluminum alloy substrate.
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