【摘 要】
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目的揭示电弧离子镀过程中,电磁和永磁复合磁场耦合作用下电磁线圈偏压对TiAlN涂层结构及性能的作用规律,优化TiAlN涂层制备工艺。方法采用电弧离子镀技术在M2高速钢基体表面
【机 构】
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广东省科学院广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室,广东工业大学材料与能源学院
【基金项目】
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国家重点研发计划项目(2016YFB0300403-05),广东省科技计划项目(2017A050506037),广东省科技厅项目(2017A070701027),2018年省院项目(2018GDASCX-0402).
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目的揭示电弧离子镀过程中,电磁和永磁复合磁场耦合作用下电磁线圈偏压对TiAlN涂层结构及性能的作用规律,优化TiAlN涂层制备工艺。方法采用电弧离子镀技术在M2高速钢基体表面沉积高Al含量Ti0.33Al0.67N涂层(TiAl靶,原子数分数,Ti∶Al=1∶2)。改变电磁线圈电压,研究涂层微观组织结构、表面粗糙度、硬度、膜/基结合力和耐磨性的变化规律。结果在15~45V范围内,电磁线圈电压小于30V时,Ti0.33Al0.67N涂层内部致密;线圈电压大于30V时,涂层内部变得疏松。线圈电压为15V时,T
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