第二届尼康中国研讨会成功召开

来源 :集成电路应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户:peace_2009
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协会与尼康公司3月19日召开了第二届尼康中国研讨会。研讨会上,协会领导和尼康公司资深专家就集成电路产业发展、已商用40—45nm量产的液浸式光刻机、Cuttingedge、Double patterning、EUVL等未来光刻技术,以及最新型i线光刻机虾155和尼康二手设备情况作了研讨。
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