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为了研究在磁控溅射工艺中溅射电流和溅射时间恒定的情况下，氩气工作压强的变化对钛膜在基底表面沉积的影响，通过用原子力显微镜分析钛膜的厚度和均方根粗糙度的方法来进行。结果表明：工作压强达到1．1Pa后，Ti膜的厚度及均方根粗糙度都随压强的增大而减小。由此说明，工作压强的变化对钛膜沉积有较大影响。
磁控溅射中工作压强对钛膜沉积的影响
【摘 要】
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为了研究在磁控溅射工艺中溅射电流和溅射时间恒定的情况下，氩气工作压强的变化对钛膜在基底表面沉积的影响，通过用原子力显微镜分析钛膜的厚度和均方根粗糙度的方法来进行。结
【机 构】
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西华大学材料科学与工程学院,四川理工学院
【出 处】
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表面技术
【发表日期】
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2009年1期
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