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对离子束混合技术在不锈钢基体上沉积的W膜进行了H+辐照前后的XPS分析,研究了H+辐照对W的结合能的影响.分析结果表明,沉积的W膜中除了单质钨外,还有部分钨的氧化物,H+辐照结果表明,H+的辐照使钨的结合能向低能方向偏移;钨的氧化物有所减少,说明污染的氧化物在一定程度上被择优溅射掉.
H^＋辐照前后W涂层表面的XPS分析
【摘 要】
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对离子束混合技术在不锈钢基体上沉积的W膜进行了H+辐照前后的XPS分析,研究了H+辐照对W的结合能的影响.分析结果表明,沉积的W膜中除了单质钨外,还有部分钨的氧化物,H+辐照结
【机 构】
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教育部辐射物理及技术重点实验室
【出 处】
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原子与分子物理学报
【发表日期】
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2002年1期
【基金项目】
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国家自然科学基金，中国科学院离子束开放研究实验室基金，高等学校博士学科点专项科研项目
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