紫外激光晶体Ce^3＋：LiSrAlF6发光温度依赖中的陷阱效应

来源 :发光学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zyqtc1989

【摘要】

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在105～300K温区内,测量了X射线激发下Ce3+:LiSrAlF6晶体发光强度的温度依赖(I-T),在237～300K温区内发光强度有特殊的增强结构,结合105～300K温区内热释光的测量,证实这种发光强度

【作者】

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魏亚光施朝淑周东方陶德节汤洪高

【机构】

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中国科学技术大学国家同步辐射实验室,中国科学院安徽光学精密机械研究所

【出处】

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发光学报

【发表日期】

：

2001年3期

【关键词】

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Ce^3+:LiSrAlF6 晶体发光强度温度依赖热释光陷阱紫外激光本征缺陷 Ce3+∶LiSrAlF6 crystal temperatured

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在105～300K温区内,测量了X射线激发下Ce3+:LiSrAlF6晶体发光强度的温度依赖(I-T),在237～300K温区内发光强度有特殊的增强结构,结合105～300K温区内热释光的测量,证实这种发光强度的增强效应是由于陷阱参与发光过程所导致.通过对热释光曲线的进一步分析,得到深度分别为0.51eV和0.55eV的陷阱能级,这些陷阱主要源于Ce3+取代Sr2+所形成的杂质缺陷和基质LiSrAlF6中的F空位以及Li+空位所形成的本征缺陷.

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