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直流反应溅射制备ZnO:Al透明导电薄膜
直流反应溅射制备ZnO:Al透明导电薄膜
来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lhbneil
【摘 要】
:
本文对直流反应溅射法制备ZnO:Al薄膜的工艺作了具体分析,探讨了氧分压、Al含量、溅射功率和靶基距等对ZnO:Al薄膜的电学、光学性能的影响。
【作 者】
:
陆峰
裴志亮
等
【机 构】
:
东北大学,中国科学院金属研究所
【出 处】
:
真空科学与技术
【发表日期】
:
2002年B12期
【关键词】
:
直流反应溅射
制备
ZNO:AL
透明导电薄膜
电阻率
透射率
铝
氧化锌
掺杂
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本文对直流反应溅射法制备ZnO:Al薄膜的工艺作了具体分析,探讨了氧分压、Al含量、溅射功率和靶基距等对ZnO:Al薄膜的电学、光学性能的影响。
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