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二氧化硅基波导薄膜的制备方法综述
二氧化硅基波导薄膜的制备方法综述
来源 :现代技术陶瓷 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zdt19880709
【摘 要】
:
总结了目前制备二氧化硅基波导薄膜的各种制备工艺,包括广泛采用的等离子增强化学气相沉积法(PECVD)、火焰水解法(FHD)、低压化学气相沉积法、溅射法、离子交换法、离子注入法和溶
【作 者】
:
朱晓辉
【机 构】
:
唐山工业职业技术学院
【出 处】
:
现代技术陶瓷
【发表日期】
:
2006年2期
【关键词】
:
SiO2基波导薄膜
制备方法
silica based waveguide film fabrication method
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总结了目前制备二氧化硅基波导薄膜的各种制备工艺,包括广泛采用的等离子增强化学气相沉积法(PECVD)、火焰水解法(FHD)、低压化学气相沉积法、溅射法、离子交换法、离子注入法和溶胶-凝胶法等制备方法,并对各种工艺的原理、特点和应用现状进行了详细的介绍。
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