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采用光刻技术和反应离子刻蚀法（RIE）先在硅表面制备出一系列平面尺寸不同的微图形阵列,然后采用溶胶凝胶（sol-gel）浸渍提拉法在其表面制备出均匀致密、表面粗糙度一致的锐钛矿型纳米晶TiO2薄膜。利用扫描电镜（SEM）和免疫荧光标记实验研究图形尺寸对人脐静脉内皮细胞（HUVEC）附着形态的影响。实验结果发现在化学成分、细胞毒性、表面粗糙度都不对细胞附着形态产生影响的条件下,HUVEC对图形尺寸的响应为：当平面空间足够时细胞的附着伸展性能较好,而当没有足够的平面空间时细胞的附着伸展性能较差。