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目的用非均匀电导率分布的颅骨模型进行电阻抗断层成像（EIT）实验，分析颅骨电导率非均匀分布对成像结果的影响。方法选用石膏材料制作非均匀电导率的颅骨模型，用此模型模拟头颅进行EIT目标成像，并将结果与均匀电导率颅骨模型的成像结果进行比较。结果相对于均匀电导率模型，在非均匀电导率模型内成像目标更加远离电导率较低一侧，且所在位置边界电压扰动量降低。结论颅骨模型的电导率非均匀分布对成像定位有明显影响，需要在成像算法上做进一步改进。