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运用X-射线电子探针研究了硅对盐胁迫下杨树根系中离子微域分布的影响。结果表明：盐胁迫（NaCl）浓度分别为0g／L、2g／L、3g／L、4g／L处理使杨树苗根系表皮、皮层和中柱细胞中Na^＋、Cl^-的X-射线峰明显升高，K^＋峰降低；而盐胁迫后加浓度为0．5g／L硅处理后根系表皮、皮层和中柱细胞中Na^＋、Cl^-的X射线明显降低，而K^＋峰则大幅度提高，Na^＋在根系各部分呈均匀分布。表明盐胁迫下水培杨树苗适当加硅可以改变其体内养分离子的吸收和离子分布，从而缓解了盐离子对杨树的毒害作用。