物理处理刘芳香族聚酰胺纤维自由基的影响──紫外线照射和低温等离子体照射处理

来源 :西北纺织工学院学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liuguoqiangswu
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经强极性溶剂二甲基甲酰胺(DMF)和二甲基亚砜(DMSO)预处理的芳香族聚酰胺纤维Nomex(m-PIA)和Kevlar(p-PTA),再经紫外线和低温等离子体处理后,用电子自旋共振(ESR)研究了纤维基质中自由基强度的变化.芳香族聚酰胺纤维经紫外线和低温等离子体照射后,在纤维基质中能生成自由基;自由基强度与纤维自身性质及预处理引起的纤维形态变化有关;自由基的稳定性随温度升高而减小;在一定温度下,放置短时间后,自由基趋于稳定. Aromatic polyamide fibers Nomex (m-PIA) and Kevlar (p-PTA) pretreated with polar solvents dimethylformamide (DMF) and dimethylsulfoxide (DMSO) After the bulk treatment, the change of free radical intensity in the fiber matrix was studied by electron spin resonance (ESR). Aromatic polyamide fibers by UV and low temperature plasma irradiation, the fiber matrix can generate free radicals; radical strength and fiber properties and pretreatment caused by changes in fiber morphology; free radical stability with increasing temperature Reduce; at a certain temperature, after a short period of time, free radicals tend to be stable.
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