【摘 要】
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随着国内外市场的极大需求及激烈竞争，固体表面高精密加工质量要求日益提高．化学机械抛光（Chemical Mechanical Polishing，简称CMP）技术几乎是迄今唯一的可以提供全局平面化的表面
【机 构】
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河北工业大学信息工程学院微电子研究所
【基金项目】
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国家自然科学安全联合基金(10676008);高校博士点基金(20050080007)
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随着国内外市场的极大需求及激烈竞争，固体表面高精密加工质量要求日益提高．化学机械抛光（Chemical Mechanical Polishing，简称CMP）技术几乎是迄今唯一的可以提供全局平面化的表面精加工技术，可广泛用于集成电路芯片、计算机硬磁盘、微型机械系统（MEMS）、宝石类衬底、金属材料、光学玻璃等表面的平整化．该文综述了在微电子制造过程中CMP技术的重要性及该技术的机理和研究现状，指出了CMP技术在目前发展过程中。存在的亟待解决的技术和理论问题，并对其发展方向进行了展望．
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