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用MicronXYZScope考察了用不同方法处理的玻璃片对膜厚为 0 .6～ 1 .0mm ,阵点高度为 1 5μm的聚二甲基硅氧烷 (PDMS)印章的粘附固定情况以及对印章收缩的影响 .经硅烷化的玻璃片与PDMS印章结合牢固 ,虽然印章表面阵点的面积收缩为 0 2 86% ,但由于分子间的强相互作用力以及分子之间的铆合作用 ,使其印章的线收缩为 0 0 4 0 3% .这一结论保证了寡核苷酸合成过程中一套印章在合成载片位点上的多次准确定位以及印章多次压印偶联反应不发生错位 ,亦即为分子印章法DNA芯片的正确合成提供了依据 .