Nb,Mo,Ti,Ta,W掺杂硅化石墨扫描电镜研究

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以硅粉的1%,2%~10%(wB)将Nb,Mo,Ti,Ta,W等5种金属粉掺入硅粉中,用液硅渗透法(LSP)制备出系列掺杂硅化石墨样品.对这些样品抗折、抗拉强度测试结果表明:Nb(6%)-硅化石墨性能最优,抗拉强度提高了20%~27%;Mo(1%)、Mo(5%)掺杂效果次之;而Ti(7%)、Ta(3%)、W(7%)等的掺杂反使材料强度降低.扫描电子显微镜(SEM)分析显示:Nb(6%)掺杂使抗拉强度增强的原因在于,新的铌与碳的间隙化合物相的生成,减小了硅化石墨显微结构的尺寸,且使材料外层及内核结构均匀、致
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