【摘 要】
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开展了扫描干涉光刻机工作台超精密位移测量的实验研究,以提高扫描干涉光刻机的环境鲁棒性。针对扫描干涉光刻机工作台位移测量精度,提出了新型高环境鲁棒性外差利特罗式光栅
【机 构】
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清华大学机械工程系摩擦学国家重点实验室&,精密超精密制造装备及控制北京市重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目（No.51677104）,中国博士后科学基金资助项目（No.2017M610885）
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开展了扫描干涉光刻机工作台超精密位移测量的实验研究,以提高扫描干涉光刻机的环境鲁棒性。针对扫描干涉光刻机工作台位移测量精度,提出了新型高环境鲁棒性外差利特罗式光栅干涉仪测量系统。介绍了系统测量原理,设计了测量系统,提出了基于Elden公式的系统死程误差建模方法。设计制造了尺寸仅为48mm×48mm×18mm的光栅干涉仪。基于误差模型计算了死程误差,计算结果表明：对于1.52mm死程的光栅干涉仪,宽松的环境波动指标（温度波动为0.01℃、压力梯度为±7.5Pa、相对湿度波动为
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