【摘 要】
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采用磁控溅射法在立方织构Ni-5％（原子分数，下同）W基底上沉积了Ag薄膜作为第二代高温超导带材——YBaCuO涂层导体的导电缓冲层，并通过后期在Ar气氛下热处理使Ag膜具有（200）择优取向。
【机 构】
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东北大学材料与冶金学院,西北有色金属研究院超导材料研究所
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采用磁控溅射法在立方织构Ni-5％（原子分数，下同）W基底上沉积了Ag薄膜作为第二代高温超导带材——YBaCuO涂层导体的导电缓冲层，并通过后期在Ar气氛下热处理使Ag膜具有（200）择优取向。磁控溅射后Ag膜的择优取向为（111），随着热处理温度的升高，（200）择优取向强度增加。采用慢降温工艺即在900℃下恒温30min，然后以较慢的速率10℃／h降至800℃后样品随炉冷却，有利于Ag薄膜由（111）向（200）的择优生长转变。
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