氟化镁薄膜的形成特点及镀膜工艺的最佳化

来源 :应用光学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：kocis2815

【摘要】

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<正> 在光学零件生产中广泛利用氟化镁单层增透膜。为了保证膜层强度,镀膜零件必须加热到300℃。镀膜所有工序中,占时间最长是加热到300℃,并在此温度下保温一段时间,随后冷

【作者】

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В.П.Повещенко Н.Г.Костюченко

【出处】

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应用光学

【发表日期】

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1987年03期

【关键词】

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基底温度镀膜工艺光学性能氟化镁工艺周期形成特点

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<正> 在光学零件生产中广泛利用氟化镁单层增透膜。为了保证膜层强度,镀膜零件必须加热到300℃。镀膜所有工序中,占时间最长是加热到300℃,并在此温度下保温一段时间,随后冷却到100℃。在许多情况下,零件必须加热到300℃,并在此温度下保温30到40分钟。同时,在300℃温度下保温取决于零件的尺寸及外形。为了保证真空装置

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