【摘 要】
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研究了自主研发的两种磁控溅射靶,分别用于溅射非强磁性材料的普通靶和溅射强磁性材料的强磁靶.溅射靶工作时,靶阴极表面的磁场约束带电粒子并提高氩离子体密氩离子轰击靶材
【基金项目】
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辽宁省教育厅高等学校科学研究计划资助项目(JDL2017032);辽宁省“百千万人才工程”培养经费资助项目
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研究了自主研发的两种磁控溅射靶,分别用于溅射非强磁性材料的普通靶和溅射强磁性材料的强磁靶.溅射靶工作时,靶阴极表面的磁场约束带电粒子并提高氩离子体密氩离子轰击靶材而实现溅射镀膜.通过模拟溅射靶的磁场强度分布,优化了磁极形状和高度.溅射靶可兼备直流溅射和射频溅射功能,射频放电的测试结果显示,两种溅射靶的成膜溅射和功率成正比,普通靶的靶材利用率相比国际上同类提高了6%~10%,强磁靶对厚度为2mm的铁靶材仍可有效溅射镀膜.
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