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采用表面活性剂十六烷基三甲基溴化氨（CTAB）为模板剂，在酸性条件下产生多孔结构，再经热处理去除CTAB.实验中使用溶胶一凝胶技术，正硅酸乙酯（TEOS）为硅源，以及二次去离子水，盐酸为催化剂等原料，利用表面活性剂与硅源水解后形成的聚集体相互作用，在溶液中形成分子自组装体，制备前驱体溶胶。通过简单提拉迅速蒸发溶剂制备纳米多孔或纳米介孔SiO2薄膜，分析和研究了表面活性剂浓度对纳米多孔SiO2薄膜的结构和孔洞率的影响，通过操纵表面活性剂的含量，能控制薄膜的纳米结构、孔洞率、孔大小和孔的形态以及膜的形貌。小角