PCVD微波等离子体化学气相沉积法光纤工艺

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【摘要】

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<正> PCVD(Plasma-activated Chemical Vapour Deposition)法是用微波低压等离子体作反应源,在石英管内沉积制备光纤预制棒的一种方法,它是荷兰Philips公司在1974年首先使用

【作者】

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邓都才

【出处】

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电信科学

【发表日期】

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1986年02期

【关键词】

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光纤工艺沉积速率预制棒微波等离子体化学气相沉积法

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<正> PCVD(Plasma-activated Chemical Vapour Deposition)法是用微波低压等离子体作反应源,在石英管内沉积制备光纤预制棒的一种方法,它是荷兰Philips公司在1974年首先使用的。一、基本原理PCVD法与通常广泛采用的MCVD法比较相似,主要不同点是在反应加热系统方面。原料气体被微波能激发电离产生等离子体,直接反应沉积出透明玻璃层。PCVD法的原理如

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