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采用射频磁控溅射法在LSCO／Pt／Ti／SiO2／Si（100）衬底上制备了0．95Pb（Sc0.5Ta0.5）O3-0．05PbTiO3（PSTT5）铁电薄膜。研究了不同的快速退火（RTA）工艺对PSTT5薄膜的结晶性能和铁电性能的影响。实验结果表明，经两步法快速退火，PSTT5薄膜具有完全钙钛矿结构且呈（220）取向。PSTT5薄膜的铁电性能测试结果也表明，采用两步法RTA处理的PSTT5薄膜具有更好的铁电性能，其剩余极化强度（2Pt）可达25．4μC／cm^2。