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通过对机械抛光后的YAG表面进行了研究，结果表明：合理优化工艺参数，可获得较好的面形和较低的粗糙度，影响抛光效率的因素为磨粒、正压力和转速。采用较大粒度的磨粒，合理的增加压力和转速，有利于提高抛光效率。
YAG基片的机械抛光研究
【摘 要】
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通过对机械抛光后的YAG表面进行了研究，结果表明：合理优化工艺参数，可获得较好的面形和较低的粗糙度，影响抛光效率的因素为磨粒、正压力和转速。采用较大粒度的磨粒，合理的增加压
【机 构】
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孝感学院物理与电子信息工程学院
【出 处】
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孝感学院学报
【发表日期】
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2006年6期
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