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纳米硅二极管的电输运特性
纳米硅二极管的电输运特性
来源 :电子学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:huweiboweb
【摘 要】
:
用PECVD法在Si衬底上沉积了纳米硅(nc-Si:H)薄膜,其室温暗电导可达10^3-10^-1Ω^-1cm^-1,高于本征单晶硅的电导,将其制成遂道二极管,其I-V曲线在77K呈现出量子台阶,对这一新颖物理现象进行了定性解释。
【作 者】
:
刘明
余明斌
【机 构】
:
北京航空航天大学非晶态物理研究室
【出 处】
:
电子学报
【发表日期】
:
1997年11期
【关键词】
:
量子点
共振隧穿
量子台阶
纳米
硅二极管
硅
Quantum dots
Resonant tunneling
Quantum staircase
【基金项目】
:
国家自然科学基金,中科院半导体所超晶格实验室资助
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用PECVD法在Si衬底上沉积了纳米硅(nc-Si:H)薄膜,其室温暗电导可达10^3-10^-1Ω^-1cm^-1,高于本征单晶硅的电导,将其制成遂道二极管,其I-V曲线在77K呈现出量子台阶,对这一新颖物理现象进行了定性解释。
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