【摘 要】
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红外成像技术的优势越来越明显,其应用也越来越广泛.因此,人们对红外焦平面列阵提出了新的要求,这些要求同时影响着探测器和集成读出电路的发展.由于各种应用具有不同的要求,
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红外成像技术的优势越来越明显,其应用也越来越广泛.因此,人们对红外焦平面列阵提出了新的要求,这些要求同时影响着探测器和集成读出电路的发展.由于各种应用具有不同的要求,而人们又没法制成可满足所有要求的通用焦平面列阵,因此需要根据用户的要求来设计焦平面列阵.提得更多的要求是更大的规格、更高的灵敏度、更小的像元和更多的功能度.此外还必须达到以低成本进行批量生产的目的.本文从焦平面列阵的两个方面,即探测器和读出集成电路,来说明如何满足不断提高的要求.对于探测器,本文同时介绍致冷型和非致冷型探测器,其中分别提到利用分子束外延技术生长的HgCdTe探测器和氧化钒(VOx)微测辐射热计.读出集成电路已发展到具有智能特征以及片上信号处理和片上模/数转换功能的水平.
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