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带开孔金属腔体内部耦合场强分布的实验研究
带开孔金属腔体内部耦合场强分布的实验研究
来源 :中国物理学会第十六届静电学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lomina
【摘 要】
:
对入射频率100~1 000 MHz内通过矩形开孔耦合入金属腔体内部的场强分布进行了实验研究,分析了矩形开孔尺寸与发生谐振现象时腔体内部场强分布间的关系,为从理论角度定量研究腔
【作 者】
:
夏志勇
王辉
胡新
肖集雄
徐晓英
【机 构】
:
武汉理工大学,理学院,湖北,武汉,430070武汉大学,电气工程学院,湖北,武汉,430070
【出 处】
:
中国物理学会第十六届静电学术会议
【发表日期】
:
2010年8期
【关键词】
:
电磁屏蔽
金属腔体
场强分布
孔缝耦合
入射频率
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对入射频率100~1 000 MHz内通过矩形开孔耦合入金属腔体内部的场强分布进行了实验研究,分析了矩形开孔尺寸与发生谐振现象时腔体内部场强分布间的关系,为从理论角度定量研究腔体内部耦合场强分布提供了实验依据,对电子设备金属腔体内的PCB板或敏感元器件的放置方式起到一定的指导作用.
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