【摘 要】
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在发生磁头表面污染的清洗工序收集了被污染的样品并提取了水样,将检查后表面无污染的磁头通过清洗用水浸泡准备了模拟样品.用原子力显微镜和超级扫描电子显微镜对两种磁头样
【机 构】
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东莞新科技术研究开发有限公司材料科学实验室
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在发生磁头表面污染的清洗工序收集了被污染的样品并提取了水样,将检查后表面无污染的磁头通过清洗用水浸泡准备了模拟样品.用原子力显微镜和超级扫描电子显微镜对两种磁头样品形貌进行观察,结果表明,污染物由20 nm左右的纳米微粒组成;采用飞行时间二次离子质谱仪、透射电子显微镜和能量损失谱仪表征了两种样品的污染物成分和微观结构,确定出两种样品污染物同为SiO2;用电感耦合等离子体质语仪检测污染发生时清洗用水水样,发现Si含量严重超标达到16 600 μg/L;在讨论了SiO2在水中存在的形式后,推断出SiO2胶体造成水处理过程中的反渗透膜和离子交换树脂失效,使大量SiO2胶体流入清洗用水造成磁头表面污染.
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