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氧和其它气体为校正温克勒滴定法测定溶解氧时钴的干扰,Lakin(7M)介绍一种包括测定化学空白的程序。钴的干扰来源于氢氧化钴,而氢氧化钴则来源于在有钴催化剂存在情况下使用亚硫酸钠时的再曝气过程。这种氧化剂然后参与反应,从而形成游离碘,后者则被滴定。Mizumiwa等人(10M)通过在550
水的分析方法发展述评(续二)
【摘 要】
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氧和其它气体为校正温克勒滴定法测定溶解氧时钴的干扰,Lakin(7M)介绍一种包括测定化学空白的程序。钴的干扰来源于氢氧化钴,而氢氧化钴则来源于在有钴催化剂存在情况下使用
【出 处】
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环境科学动态
【发表日期】
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1984年3期
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