V2O5在硅胶表面的分散及助剂K2SO4作用的研究

来源 :物理化学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wxlcc1026

【摘要】

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用原位XRD方法证明V_2O_5能在硅胶表面自发分散,但所需温度较高.水汽对V_2O_6的分散有一定的阻碍作用.K_2SO_4可显著加快V_2O_5在SiO_2表面的分散速度,并能降低V_2O_5/SiO_2

【作者】

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赵璧英王秋霞

【机构】

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北京大学物理化学研究所,北京大学物理化学研究所北京,100871,北京,100871

【出处】

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物理化学学报

【发表日期】

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1993年2期

【关键词】

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王氧化二钒催化剂表面分散 V_2O_5/SiO_2 catalyst Dispersion on surface K_2SO_4 promoter

【基金项目】

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国家自然科学基金

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用原位XRD方法证明V_2O_5能在硅胶表面自发分散,但所需温度较高.水汽对V_2O_6的分散有一定的阻碍作用.K_2SO_4可显著加快V_2O_5在SiO_2表面的分散速度,并能降低V_2O_5/SiO_2的表面酸性.被中和的主要是强酸位.这可能是K_2SO_4能够改善V_2O_5/SiO_2催化剂在选择氧化反应中选择性的重要原因之一.

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