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准确的测量薄膜的厚度和光学常数，在薄膜的制备、研究和应用中都十分重要。借助Cauchy色散模型和P阶评函数，通过薄膜透过率测量曲线，用改进的遗传算法对透过率曲线进行全光谱拟合，从而反演得到薄膜的厚度和光学常数。理论验证是对电子束蒸发制备的TiO2和反应磁控溅射制备的Si3N4薄膜进行测试拟合，计算得到的结果与文献报道的一致，误差小于0．5％。