【摘 要】
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等离子体-物理气相沉积(PS-PVD)技术融合了等离子体喷涂(PS)和电子束-物理气相沉积(EB-PVD)的优点,沉积效率高、成本相对较低和可制备柱状晶结构涂层。因此,PS-PVD在制备先进
【机 构】
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中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院大学材料与光电研究中心
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等离子体-物理气相沉积(PS-PVD)技术融合了等离子体喷涂(PS)和电子束-物理气相沉积(EB-PVD)的优点,沉积效率高、成本相对较低和可制备柱状晶结构涂层。因此,PS-PVD在制备先进发动机热障涂层(TBCs)上备受关注。利用PS-PVD工艺制备了多种结构的氧化钇部分稳定氧化锆(YSZ)TBCs,采用场发射扫描电镜(FE-SEM)和电子背散射衍射(EBSD)观察和分析涂层微结构与晶体织构特征。试验表明:制备的YSZ涂层为柱状晶结构,在同一喷涂距离处,沿喷涂斑点中心向外围过渡区域,柱状晶端面由四棱锥结
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