【摘 要】
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<正> 在硅外延片生产过程中,需要测出较高精度的工艺重复温度,以保证每一批片子的质量。通常采用隐丝式光学高温计测温,缺点是误差大,不能连续监测,无法提供控温信号。也有用
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<正> 在硅外延片生产过程中,需要测出较高精度的工艺重复温度,以保证每一批片子的质量。通常采用隐丝式光学高温计测温,缺点是误差大,不能连续监测,无法提供控温信号。也有用辐射测温仪测温的,但是发现误差仍然很大,仍不能保证测得良好的工艺重复温度。本文分析了工艺重复温度不精确的主要原因是:1.石英管壁厚度不均匀造成透过率各处不均匀。2.外延时石英管壁会附着一层彩色沉积物,影响透过率。3.通常的商品辐射测温仪视场太大,以致观察到目标以外的环境物体。4.探测器稳定性差。本文提出了消除上述不足的方法:首先通过实验选取合适的工作波段,测得附着物在2.0～2.6μm波段有较高的透过率,其次设计出一套适用于该波段的小视场光学系统,同时还要解决可见光小目标瞄准系统问题。利用平板玻璃涂以In2O3∶Sn（ITO）膜作为分束镜
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