Ge/GaAs中APD及薄膜性能研究

来源 :功能材料与器件学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:my2002hhl
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研究了一种光纤通讯用光电探测器。在GaAs上蒸镀800nm的Ge,并在此材料基础上提出了一种吸收倍增分离的雪崩二极管(SAM-APD)的结构设计,采用GaAs作为倍增区,Ge作为吸收区。在此结构上初步制作的二极管正向开启电压为0.2 ̄0.3V,反向击穿电压为2.5V,漏电不明显,p-n结特性良好。
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