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采用直流反应磁控溅射方法，在不同偏压条件下，在硬质合金基片（YG8 WC＋8％Co）上沉积了氮化碳薄膜，并通过X光电子能谱仪、涂层附着力自动划痕仪和摩擦磨损试验机研究了CNx薄膜与基体的附着力及其摩擦学性能。结果表明，基片偏压对附着力和薄膜的摩擦学性能有一定的影响，在偏压为-100V时沉积的CNx薄膜摩擦系数较小，具有良好的减摩作用，对硬质合金的附着力最好。