【摘 要】
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用均苯四甲酸二酐和4,4′-二氨基二苯醚合成聚酰亚胺(PI)树脂,以甲基三乙氧基硅烷为无机前驱体原位产生二氧化硅(SiO2)粒子,并以3-氨丙基三乙氧基硅烷为偶联剂制备了PI/SiO2
【机 构】
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湖南株洲时代新材料科技股份有限公司,哈尔滨理工大学材料科学与工程学院,湖南株洲时代新材料科技股份有限公司
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用均苯四甲酸二酐和4,4′-二氨基二苯醚合成聚酰亚胺(PI)树脂,以甲基三乙氧基硅烷为无机前驱体原位产生二氧化硅(SiO2)粒子,并以3-氨丙基三乙氧基硅烷为偶联剂制备了PI/SiO2杂化薄膜.分析和讨论了无机成分的含量和两相间界面形态的变化对PI/SiO2薄膜耐电晕性能的影响.结果表明,无机组分的引入对杂化PI/SiO2薄膜的耐电晕性能产生很大的影响,薄膜的耐电晕性能随SiO2含量的增加而提高;偶联剂的引入对无机粒子的分散、两相相容性,以及界面形态具有明显的改善作用,对薄膜耐电晕性能的改善更为明显.并提
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