THF-SDS对瓦斯水合分离过程温度场分布影响

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为探究THF-SDS复配溶液对瓦斯水合反应过程温度场影响,利用配备阵列式温度传感器的水合反应装置,研究了3组促进剂溶液(1 mol/L THF,1 mol/L THF+0.02 mol/L SDS,1 mol/L THF+0.1 mol/L SDS)体系中瓦斯混合气(85%CH4,7%N2,3%O2,5%CO2)水合分离过程温度场分布特征。结果表明:瓦斯水合体系中SDS浓度增加,反应放热速率呈递增趋势(0.030~0.230 k J/min);反应热导致水合体系温度分布发生变化,体系上层温度最高,下层温度
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