基于正交方法的射线检测暗室处理技术的试验

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本文针对射线检测暗室处理技术的影响因素,以显影、定影作为主要影响指标,采用正交试验法分析了在不同的显影温度、显影时间和定影温度下对底片质量的影响.确定了对是影响暗室处理技术的最优组合.试验通过对每组胶片进行对比得到的结果表明:在显影温度20℃,显影时间5min,定影温度24℃的情况下,得到底片灵敏度最高.
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