光刻技术在整体式层板催化剂床研究中的应用

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采用自主设计研制的高精度双面自对准光刻模具和标准MEMS光刻工艺技术研制出整体式层板催化剂床板片,简要介绍了光刻工艺原理、工艺流程和工艺过程。光刻加工出的板片满足设计要求,板片经过电镀和真空扩散焊接工艺形成了整体式催化剂床,该床成功地通过了热点火试车。催化剂床床载为16.5g/(cm^2·s),分解效率为97%,室压粗糙度小于2%。
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