Ni-Mo合金电沉积层的X-射线光电子能谱研究

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利用X-射线光电子能谱对Ni-Mo沉积层表层中Ni、Mo的存在形式进行了分析,并对其表面进行了Ar^+离子刻蚀深度分析,结果表明:Ar^+离子未溅射时,沉积层中的Ni和Mo分别以Ni(OH)2和MoO3(或MoO^2-4)形式存在:Ar^+离子浅射3min后,沉积层中的Ni和Mo分别以NiO和MoO2形式存在;Ar^+离子溅射15min后,沉积层中的Ni和Mo分别以单质Ni和单质Mo形式存在。
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