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采用动电位扫描，循环伏安以及电化学交流阻抗等方法研究了铜钴米多层膜的电沉积机理，结果表明：在所研究的体系中，铜的沉积是扩散控制的可逆电极过程，而钴的沉积是首先形成Ｃｏ（ＯＨ）ａｄｓ的吸附中间产物，而后在电极上进一步还原为原子态，基于研究结果，提出了铜钴沉积的机制。
电沉积铜钴纳米多层膜的机理研究
【摘 要】
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采用动电位扫描，循环伏安以及电化学交流阻抗等方法研究了铜钴米多层膜的电沉积机理，结果表明：在所研究的体系中，铜的沉积是扩散控制的可逆电极过程，而钴的沉积是首先形成Ｃｏ（ＯＨ）ａｄｓ的吸附中
【机 构】
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北京科技大学表面科学与腐蚀工程系
【出 处】
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电化学
【发表日期】
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1997年4期
【基金项目】
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新金属材料国家重点实验室,冶金部腐蚀与磨损开放研究室资助
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