【摘 要】
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利用Z-扫描测试技术研究了低功率下Sb80 Bi20纳米薄膜的非线性光学特性，并利用椭圆偏振光谱仪测量了薄膜光学常数及椭偏参数。实验结果表明Sb80Bi20薄膜具有较大的饱和非线性光学吸收，非线性系数约为-0.018 m/W，而非线性折射率效应却不明显。Sb80Bi20纳米薄膜的超分辨效应主要在于具有大的非线性吸收系数。理论计算表明35 nm厚薄膜可使高斯光束半径缩小大约10%。因此Sb80Bi20薄膜有望用于近场超分辨结构。
【机 构】
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郑州轻工业学院物理与电子工程学院，河南郑州450002中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室,上海201800
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利用Z-扫描测试技术研究了低功率下Sb80 Bi20纳米薄膜的非线性光学特性，并利用椭圆偏振光谱仪测量了薄膜光学常数及椭偏参数。实验结果表明Sb80Bi20薄膜具有较大的饱和非线性光学吸收，非线性系数约为-0.018 m/W，而非线性折射率效应却不明显。Sb80Bi20纳米薄膜的超分辨效应主要在于具有大的非线性吸收系数。理论计算表明35 nm厚薄膜可使高斯光束半径缩小大约10%。因此Sb80Bi20薄膜有望用于近场超分辨结构。
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