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介绍了纳米结构制作的一种新方法--微接触印刷术的工艺流程和关键技术,并简要分析了影响微印刷技术的几个因素.它克服了传统光刻技术的缺陷,能在金、银、硅片等多种基材上制作平面和曲面上的纳米–微米量级的精细结构.精确重复,工艺简单,对实验室条件要求不高,加工成本低,生产效率高.
微接触印刷术——制备纳米器件的新技术
【摘 要】
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介绍了纳米结构制作的一种新方法--微接触印刷术的工艺流程和关键技术,并简要分析了影响微印刷技术的几个因素.它克服了传统光刻技术的缺陷,能在金、银、硅片等多种基材上制
【机 构】
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清华大学材料科学与工程系电子材料与封装技术实验室
【出 处】
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电子元件与材料
【发表日期】
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2005年8期
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