【摘 要】
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采用多弧离子镀技术,使用Ti-AI-Zr合金靶和Cr靶,在W18Cr4V高速钢基体上沉积（Ti,Al,Zr,Cr）N多组元氮化物膜。利用扫描电镜（SEM）、电子能谱仪（EDS）和X射线衍射（XRD）对薄膜的成分、结构
【机 构】
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东北大学材料各向异性与织构工程教育部重点实验室,沈阳大学机械工程学院
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采用多弧离子镀技术,使用Ti-AI-Zr合金靶和Cr靶,在W18Cr4V高速钢基体上沉积（Ti,Al,Zr,Cr）N多组元氮化物膜。利用扫描电镜（SEM）、电子能谱仪（EDS）和X射线衍射（XRD）对薄膜的成分、结构和微观组织进行测量和表征;利用划痕仪、显微硬度计测评薄膜的力学性能。结果表明,获得的多组元氮化物膜仍具有B1-NaCl型的TiN面心立方结构;薄膜的成分除-50V偏压外,其它偏压下的变化均不明显;增大偏压可减少薄膜表面的液滴污染,提高薄膜的显微硬度及膜/基结合力,最高值可分别达到HV3300和
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