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<正>4 ITO玻璃通常在基片玻璃上用电子束蒸发或在氧气气氛中溅射得到ITO膜,膜厚在100～300nm之间,由所需的电阻所确定。在溅射时,采用ITO合金靶,在SnO2-In2O3合金中,SnO2的浓度大约为5%～10%时,有利于得到最佳的ITO膜性能。在沉积过程中,氧
LCD相关原材料产业发展态势(下)
【摘 要】
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<正>4 ITO玻璃通常在基片玻璃上用电子束蒸发或在氧气气氛中溅射得到ITO膜,膜厚在100～300nm之间,由所需的电阻所确定。在溅射时,采用ITO合金靶,在SnO2-In2O3合金中,SnO2的浓度
【机 构】
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北京清华液晶技术工程研究中心
【出 处】
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现代显示
【发表日期】
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2007年04期
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