论文部分内容阅读
TSMC4月7日宣布针对65nm、40nm及28nm工艺推出已统合且可交互操作的多项电子设计自动化(Electronic Design Automation,EDA)技术档案。这些与设计相关的技术档案套装包括可互通的工艺设计套件(iPDK)、工艺设计规则检查(iDRC)、集成电路布局与电路图对比(iLVS)及工艺电容电阻抽取模组(iRCX)。